[发明专利]射束阱、射束引导装置、EUV辐射产生设备和用于吸收射束的方法有效
| 申请号： | 201580077421.7 | 申请日： | 2015-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN107405728B | 公开（公告）日： | 2020-05-12 |
| 发明（设计）人： | M·兰贝特 | 申请（专利权）人： | 通快激光系统半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/70 | 分类号： | B23K26/70 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 郭毅 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种射束阱(20)，其包括：用于反射入射到所述反射器(21)的表面上的射束、尤其激光射束(5)的反射器(21)，以及用于吸收在所述反射器(21)的表面(21a)处经反射的射束的吸收器装置(22)。所述反射器(21)的表面是分段的并且具有多个反射器区域(23a‑g)，所述多个反射器区域构造用于将所述入射射束的相应的部分射束(25a‑g)反射到所述吸收器装置(22)的分配给所述相应的反射器区域(23a‑g)的吸收器区域(26a‑g)。本发明也涉及一种具有这种射束阱(20)的射束引导装置、具有这种射束引导装置的EUV辐射产生设备(1)以及所属的用于吸收射束、尤其用于吸收激光射束(5)的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 射束阱 引导 装置 euv 辐射 产生 设备 用于 吸收 方法 | ||
【主权项】：
一种射束阱(20)，其包括：用于反射一入射到所述反射器(21)的表面(21a)上的射束、尤其激光射束(5)的反射器(21)，以及用于吸收在所述反射器(21)的表面(21a)处经反射的射束的吸收器装置(22)，其中，所述反射器(21)的表面(21a)是分段的并且具有多个反射器区域(23a‑g)，所述多个反射器区域构造用于将入射射束的相应的部分射束(25a‑g)反射到所述吸收器装置(22)的分配给相应的反射器区域(23a‑g)的吸收器区域(26a‑g)中。
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