[发明专利]以非均匀线性图案着色光学元件的方法有效
申请号: | 201580077554.4 | 申请日: | 2015-03-10 |
公开(公告)号: | CN107405938B | 公开(公告)日: | 2020-09-15 |
发明(设计)人: | J·M·弗里亚斯;W·D·卡彭特 | 申请(专利权)人: | 光学转变公司 |
主分类号: | B41M3/00 | 分类号: | B41M3/00;B41M5/00 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 孙悦 |
地址: | 美国佛*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供了以非均匀线性图案着色光学元件的方法。该方法包括(a)制备至少一种含有至少一种光致变色材料的着色剂组合物;(b)使用喷墨打印装置将该着色剂组合物以受控的、预定的图案沉积在该光学元件的至少一个表面上,从而当该光学元件暴露于光化辐射时在该光学元件上提供线性梯度颜色图案;和(c)干燥该光学元件的表面上的该着色剂组合物。还提供了通过该方法制备的光学元件。 | ||
搜索关键词: | 均匀 线性 图案 着色 光学 元件 方法 | ||
【主权项】:
以非均匀线性图案着色光学元件的方法,该方法包括:(a)制备至少一种包含至少一种光致变色材料的着色剂组合物;(b)使用喷墨打印装置将该着色剂组合物以受控的、预定的图案沉积到光学元件的至少一个表面上,从而在该光学元件暴露于光化辐射后在该光学元件上提供线性梯度颜色图案;和(c)干燥该光学元件的表面上的该着色剂组合物。
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