[发明专利]使用激光图案化制造阴影掩膜的装置和使用激光图案化制造阴影掩膜的方法

摘要

根据本发明的用于制造阴影掩膜的装置和方法包括：在基座的顶部上定位设置有与要被制造的掩膜图案对应的遮掩图案的掩膜部分的步骤；以及通过从掩膜部分的顶部照射激光束并且使用已经穿过掩膜部分的激光束对基座进行处理而在基座上制备对应于遮掩图案的掩膜图案的步骤，其中提供多个遮掩图案以具有不同的宽度，并且提供朝向基座被定位的方向宽度更窄的遮掩图案，使得从掩膜部分的顶部被照射的激光束在逐步穿过多个遮掩图案之后被照射在基座上。此外，使用相移掩膜和狭缝掩膜逐渐调整图案周围的强度，从而使能进行沉积掩膜所需的锥形过程。

主权项

1.一种使用激光图案化来制造具有精细掩膜图案的阴影掩膜的装置，所述装置包括：光束供应单元，其供应激光束；光束控制单元，其控制来自所述光束供应单元的激光束的位置和尺寸；衍射光学单元，其将所述激光束分割成具有均匀强度分布的多个激光束；遮掩构件，其具有遮掩图案，所述遮掩图案分别对应于使被分割的激光束通过的掩膜图案，并且所述遮掩构件遮蔽所述激光束的边缘；变焦透镜单元，其调整穿过所述遮掩构件的激光束的图案间距和尺寸；以及投影单元，其以预定的缩小率将穿过所述变焦透镜单元的激光束发送到基座，其中所述遮掩构件包括多个遮掩构件，其被设置成使得遮掩图案具有不同的宽度，并且具有小宽度的遮掩图案被布置为靠近所述基座，使得激光束逐步穿过所述遮掩图案。