[发明专利]波面计测装置和波面计测方法有效

专利信息
申请号: 201580077921.0 申请日: 2015-03-27
公开(公告)号: CN107430046B 公开(公告)日: 2019-08-30
发明(设计)人: 佐藤阳辅 申请(专利权)人: 奥林巴斯株式会社
主分类号: G01M11/00 分类号: G01M11/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 黄纶伟;于英慧
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 波面计测装置(1)具有光源部(2)、保持部(3)、受光光学系统(4)、波面测定部(5)、波面数据生成部(6),光源部(2)配置在计测轴(7)的一侧,波面测定部(5)配置在计测轴(7)的另一侧,保持部(3)配置在光源部(2)与波面测定部(5)之间,受光光学系统(4)配置在保持部(3)与波面测定部(5)之间,保持部(3)具有保持被检光学系统(10)的开口部(9),从光源部(2)朝向被检光学系统(10)照射光束(L1),利用波面测定部(5)测定透射过被检光学系统(10)的光束(L3),利用波面数据生成部(6),根据由波面测定部(5)测定出的结果生成波面像差数据,其中,通过受光光学系统(4),开口部(9)附近和波面测定部(5)附近在光学上共轭,光束的测定至少包含使开口部(9)的中心从计测轴(7)离开规定距离的状态下的测定。
搜索关键词: 波面计测 装置 方法
【主权项】:
1.一种波面计测装置,其具有光源部、保持部、第1移动机构、受光光学系统、波面测定部、波面数据生成部、第2移动机构、自转前波面数据取得控制部、自转后波面数据取得控制部、波面变化数据分析部,所述光源部配置在计测轴的一侧,所述波面测定部配置在所述计测轴的另一侧,所述保持部配置在所述光源部与所述波面测定部之间,所述受光光学系统配置在所述保持部与所述波面测定部之间,所述保持部具有保持被检光学系统的开口部,从所述光源部朝向所述被检光学系统照射光束,利用所述波面测定部测定透射过所述被检光学系统的光束,利用所述波面数据生成部,根据由所述波面测定部测定出的结果生成波面像差数据,其特征在于,通过所述受光光学系统,所述开口部附近和所述波面测定部附近在光学上共轭,所述第1移动机构使所述被检光学系统移动到所述计测轴周围的多个位置,所述光束在所述被检光学系统上的透射区域在所述多个位置分别不同,所述波面测定部在所述多个位置分别测定透射过所述被检光学系统的光束,所述波面数据生成部根据在所述多个位置分别测定的结果生成所述波面像差数据,所述第2移动机构使所述被检光学系统自转,第1状态是实施所述第2移动机构的自转之前的状态,第2状态是实施所述第2移动机构的自转之后的状态,所述自转前波面数据取得控制部在所述第1状态下,使所述被检光学系统相对于所述计测轴在公转轨道上移动,保存在所述公转轨道中的所述多个位置分别取得的波面像差数据,所述自转后波面数据取得控制部在所述第2状态下,使所述被检光学系统相对于所述计测轴在公转轨道上移动,保存在所述公转轨道中的所述多个位置分别取得的波面像差数据,所述波面变化数据分析部把所述第1状态下取得的波面像差数据设为参照波面数据,把所述第2状态下取得的波面像差数据设为测定波面数据,取得伴随自转的波面像差变化数据。
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