[发明专利]氮化物半导体场效应晶体管有效

专利信息
申请号: 201580078398.3 申请日: 2015-10-20
公开(公告)号: CN107431021B 公开(公告)日: 2020-09-22
发明(设计)人: 仲山宽;小山顺一郎;藤田耕一郎 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: H01L21/338 分类号: H01L21/338;H01L29/06;H01L29/778;H01L29/812
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 汪飞亚;李艳霞
地址: 日本国大*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在氮化物半导体场效应晶体管中,第一绝缘膜(109)的凹部(122)侧的端与凹部(122)的开口缘132相隔距离(D2),另一方面,第二绝缘膜(110)的凹部(122)侧的端与第一绝缘膜(109)的凹部(122)侧的端相隔距离(D12)。漏极电极(106)的凹部(122)外的部分,朝向栅极电极(108)侧呈屋檐状突出,并且以从凹部(122)跨及氮化物半导体层压体(104)、第一绝缘膜(109)及第二绝缘膜(110)的各表面上的方式形成,且与氮化物半导体层压体(104)、第一绝缘膜(109)及第二绝缘膜(110)的各表面接触。
搜索关键词: 氮化物 半导体 场效应 晶体管
【主权项】:
一种氮化物半导体场效应晶体管,其特征在于具备:氮化物半导体层压体,具有异质界面,并且具有自表面朝向所述异质界面凹入的凹部;源极电极,配置于所述氮化物半导体层压体的表面上;漏极电极,在所述氮化物半导体层压体的表面上,以相对于所述源极电极隔有间隔的方式配置,且一部分进入所述凹部内;栅极电极,配置于所述源极电极与所述漏极电极之间;第一绝缘膜,形成于所述氮化物半导体层压体的表面上,至少含有硅及氮作为构成元素;及第二绝缘膜,形成于所述第一绝缘膜上;所述第一绝缘膜的所述凹部侧的端,与所述凹部的开口缘相隔预先设定的距离,另一方面,所述第二绝缘膜的所述凹部侧的端,与所述第一绝缘膜的所述凹部侧的端相隔预先设定的距离;所述漏极电极的所述凹部外的部分,朝向所述栅极电极侧呈屋檐状突出,并且以从所述凹部跨及所述氮化物半导体层压体、第一绝缘膜及第二绝缘膜的各表面上的方式形成,且与所述氮化物半导体层压体、第一绝缘膜及第二绝缘膜的各表面接触。
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