[发明专利]透明导电性薄膜有效
申请号: | 201580078944.3 | 申请日: | 2015-10-30 |
公开(公告)号: | CN107533880B | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 加藤大贵;藤野望;梨木智刚 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;B32B7/02;B32B9/00;G06F3/041 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 实现一种耐擦伤性高、在短时间内完成透明导电层的结晶化的透明导电性薄膜。在透明的基材薄膜(11)上依次层叠有硬涂层(12)、光学调整层(13)和透明导电层(14)的透明导电性薄膜(10)。硬涂层(12)的厚度为250nm~2000nm,光学调整层(13)的厚度是硬涂层的厚度的2%~10%。透明导电层(14)的结晶化例如通过140℃、30分钟的热处理来完成。 | ||
搜索关键词: | 透明 导电性 薄膜 | ||
【主权项】:
一种透明导电性薄膜,其特征在于,其为在透明的基材薄膜上至少依次层叠硬涂层、光学调整层和透明导电层而成的透明导电性薄膜,所述透明导电层包含铟,所述硬涂层的厚度为250nm~2000nm,所述光学调整层的厚度为所述硬涂层的厚度的2%~10%。
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