[发明专利]金属基板和使用该金属基板的沉积掩膜有效
| 申请号： | 201580080724.4 | 申请日： | 2015-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN107709601B | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 卢健镐;曹守铉;黄周炫;金南昊;李相范;林正龙;韩太勋;文炳律;朴宰奭;孙晓源 | 申请（专利权）人： | LG伊诺特有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 11227 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王艳江;董敏 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明的实施方式涉及一种可适用于有机发光器件等的沉积工艺的掩膜结构，并且允许提供一种沉积掩膜，该沉积掩膜包括：第一表面和第二表面，该第一表面和第二表面在金属板的厚度方向正交并且彼此面对；以及多个单位孔，多个单位孔具有穿过第一表面和第二表面并且彼此连通的第一表面孔和第二表面孔，其中，基于在任选的单位孔之间的尺寸变化将在相邻单位孔之间的第一表面孔或第二表面孔的尺寸变化控制在2％至10％之内，或者基于第一表面的表面将第一表面孔的中心和第二表面孔的中心布置在中心彼此不重合的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 使用 沉积 | ||
【主权项】：
1.一种金属基板，包括：/n具有厚度的基部金属板，/n其中，所述基部金属板包括第一表面和第二表面，所述第一表面和所述第二表面垂直于所述厚度的方向并且彼此相对，/n其中，从所述基部金属板的特定点处提取尺寸为宽度30mm×长度180mm的样品基板并且对所述样品基板的除了从所述样品基板的两个端部向内10mm以外的内部执行蚀刻工艺，使得形成厚度对应于所述样品基板厚度的2/3至1/2的蚀刻区域，/n其中，所述样品基板的扭曲指数(Hr)在所述样品基板安装在水平的目标表面上时满足以下关系并且其中，所述扭曲指数(Hr)的值在0.2到7的范围内，/n[公式1]/nHr＝{(H1-Ha)
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