[发明专利]制作半导体X射线检测器的方法有效

专利信息
申请号: 201580081257.7 申请日: 2015-07-09
公开(公告)号: CN107710021B 公开(公告)日: 2019-09-27
发明(设计)人: 曹培炎;刘雨润 申请(专利权)人: 深圳帧观德芯科技有限公司
主分类号: G01T1/24 分类号: G01T1/24;H01L27/146;H01L31/09
代理公司: 深圳市六加知识产权代理有限公司 44372 代理人: 罗水江
地址: 518000 广东省深圳市前海深港合作区前*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本文公开制作适合于检测X射线的装置(100)的方法,该方法包括:使晶片(其包括X射线吸收层(110))附着到衬底(900)表面,其中该表面导电;使晶片变薄;在晶片中形成电触点(119A);使电子层(120)接合到晶片使得晶片的电触点(119A)电连接到电子层(120)的电触点(125)。
搜索关键词: 制作 半导体 射线 检测器 方法
【主权项】:
1.一种制作适合于检测X射线的装置的方法,所述方法包括:获取包括X射线吸收层的晶片;获取衬底,所述衬底的表面导电;使所述晶片附着到所述表面;使所述X射线吸收层变薄;在所述X射线吸收层中形成电触点;使电子层接合到所述X射线吸收层使得所述X射线吸收层的电触点电连接到所述电子层的电触点。
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