[发明专利]辐射图像处理方法及射线照相系统有效
申请号: | 201580081501.X | 申请日: | 2015-10-23 |
公开(公告)号: | CN107847198B | 公开(公告)日: | 2021-03-23 |
发明(设计)人: | 崔豪烈;申哲雨;赵美贞;金恩;金正弼;罗龙柱 | 申请(专利权)人: | DR科技股份有限公司 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00;A61B6/10 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨贝贝;臧建明 |
地址: | 韩国京畿道城南市中院区遁村*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种辐射图像处理方法及射线照相系统,且具体来说,涉及一种能够对由于在间接辐射探测器的闪烁器面板中出现的光散射而引起的模糊进行修正的辐射图像处理方法及射线照相系统。本发明提出一种辐射图像处理方法,所述辐射图像处理方法包括通过使用包括闪烁器面板及像素阵列面板的间接型辐射探测器获得辐射图像、根据所述闪烁器面板或所述像素阵列面板来确定用于定义点扩展函数的参数值、以及通过使用被应用所述参数值的所述点扩展函数对所述辐射图像进行反卷积来修正所述辐射图像。 | ||
搜索关键词: | 辐射 图像 处理 方法 射线 照相 系统 | ||
【主权项】:
一种辐射图像处理方法,包括:使用间接辐射探测器获得辐射图像,所述间接辐射探测器包括闪烁器面板及像素阵列面板;确定用于根据所述闪烁器面板或所述像素阵列面板来定义点扩展函数(PSF)的参数值;以及通过使用被应用所述参数值的所述点扩展函数(PSF)对所述辐射图像进行反卷积来修正所述辐射图像。
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