[发明专利]用于有机发光二极管制造的阴影掩模在审
| 申请号： | 201580082211.7 | 申请日： | 2015-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN108026627A | 公开（公告）日： | 2018-05-11 |
| 发明（设计）人： | 布赖恩·E·拉塞特;迪特尔·哈斯;西·黄 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C25D1/10 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 阴影掩模(200)，包含由金属材料制成的框架(210)，和耦接至所述框架(210)的一个或多个掩模图案(205)，所述一个或多个掩模图案(205)包括金属材料(所述金属材料具有小于或等于约14微米/米/摄氏度的热膨胀系数)并且具有形成在所述一个或多个掩模图案(205)中的多个开口(215)，所述金属材料具有约5微米至约50微米的厚度并且具有横跨约160毫米的长度在开口(215)之间的约+/‑3微米的间距公差(pitch tolerance)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 有机 发光二极管 制造 阴影 | ||
【主权项】：
1.一种阴影掩模，包括：框架，所述框架由金属材料制成；和一个或多个掩模图案，所述一个或多个掩模图案耦接至所述框架，所述一个或多个掩模图案包括金属，所述金属具有小于或等于约14微米/米/摄氏度的热膨胀系数并且具有形成在所述金属中的多个开口，所述金属具有约5微米至约50微米的厚度，并且具有横跨约160毫米的长度约+/-3微米的在开口之间的间距公差。
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