[发明专利]活塞环及其制造方法有效
| 申请号： | 201580082326.6 | 申请日： | 2015-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN107923533B | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 大城竹彦;三宅浩二;辻冈正宪;吉田聡 | 申请（专利权）人： | 日本ITF株式会社;本田技研工业株式会社 |
| 主分类号： | F16J9/26 | 分类号： | F16J9/26 |
| 代理公司： | 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 马爽;臧建明 |
| 地址： | 日本京都府京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种活塞环及其制造方法，使用并不具有特别的功能的通常的成膜装置且无需精密的控制地制造并提供低摩擦性与耐磨耗性优异的活塞环。所述活塞环，其为在环状基材的表面上被覆有非晶碳膜的活塞环，并且非晶碳膜是使用CVD法而成膜，且自基材表面朝向膜表面交替形成有sp | ||
| 搜索关键词： | 活塞环 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种活塞环，其为在环状基材的表面被覆有非晶碳膜的活塞环，且其特征在于：/n所述非晶碳膜是使用化学气相沉积法而成膜，且/n自所述基材表面朝向膜表面交替形成有sp
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