[发明专利]自对准存储器阵列在审

专利信息
申请号: 201580082489.4 申请日: 2015-09-24
公开(公告)号: CN108028060A 公开(公告)日: 2018-05-11
发明(设计)人: E·V·卡尔波夫;U·沙阿;R·皮拉里塞泰;B·S·多伊尔 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: G11C11/16 分类号: G11C11/16
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 陈松涛;韩宏
地址: 美国加*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实施例包括一种存储器阵列,该存储器阵列包括:存储器单元,其包括与存储器堆叠串联的开关堆叠;以及在存储器单元上方的位线和在存储器单元下方的字线;其中(a)开关堆叠的第一开关堆叠侧壁与位线的位线侧壁垂直对准,并且开关堆叠的第二开关堆叠侧壁与字线的字线侧壁垂直对准;(b)存储器堆叠的第一存储器堆叠侧壁与位线侧壁垂直对准,并且存储器堆叠的第二存储器堆叠侧壁与字线侧壁垂直对准。本文描述了其它实施例。
搜索关键词: 对准 存储器 阵列
【主权项】:
1.一种方法,包括:在第一金属层上形成开关堆叠平面和存储器堆叠平面两者;将第一掩模设置在所述存储器堆叠平面上方,以及基于所述第一掩模去除所述开关堆叠平面、所述存储器堆叠平面和所述第一金属层的部分以便在由所述第一金属层形成的字线上方形成开关堆叠条和存储器堆叠条,其中,所述开关堆叠条的第一开关堆叠侧壁和所述存储器堆叠条的第一存储器堆叠侧壁与所述字线的字线侧壁垂直对准;在所述字线上形成第二金属层;以及将第二掩模设置在所述字线上方,以及基于所述第二掩模去除所述开关堆叠条、所述存储器堆叠条和所述第二金属层的部分以便在由所述第二金属层形成的位线下方形成包括所述开关堆叠条和所述存储器堆叠条的部分的存储器单元,其中,剩余的开关堆叠条部分的第二开关堆叠侧壁和剩余的存储器堆叠条部分的第二存储器堆叠侧壁与所述位线的位线侧壁垂直对准。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英特尔公司,未经英特尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201580082489.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top