[发明专利]离子分析装置有效

专利信息
申请号: 201580083150.6 申请日: 2015-10-09
公开(公告)号: CN108027347B 公开(公告)日: 2021-08-13
发明(设计)人: 西村和茂;佐竹宏之;杉山益之;长谷川英树;坂井友幸 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: G01N27/626 分类号: G01N27/626;H01J49/10;H01J49/26
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴克鹏
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 为了降低因添加剂导致的装置污染,并高速地切换添加剂的喷雾和停止,本发明的离子分析装置具有:离子源,其将测定对象物质进行离子化;喷雾部,其将含有与测定对象物质反应的添加剂的液体进行微粒化,并朝向测定对象物质进行喷雾;分离分析部,其对由测定对象物质与添加剂反应而生成的离子进行分离分析;检测器,其对在分离分析部中分离分析出的离子进行检测;以及,控制部,其在不需要添加剂的时间内使供给至喷雾部的添加剂的流量降低。
搜索关键词: 离子 分析 装置
【主权项】:
1.一种离子分析装置,其具有:离子源,其将测定对象物质进行离子化;喷雾部,其将含有与所述测定对象物质反应的添加剂的液体进行微粒化,并朝向所述测定对象物质进行喷雾;分离分析部,其对由所述测定对象物质与所述添加剂反应而生成的离子进行分离分析;检测器,其对在所述分离分析部中分离分析出的离子进行检测;以及控制部,其在不需要所述添加剂的时间内使供给至所述喷雾部的所述添加剂的流量降低。
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