[发明专利]成膜装置有效
申请号: | 201580083958.4 | 申请日: | 2015-10-19 |
公开(公告)号: | CN108138319B | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 白幡孝洋;织田容征 | 申请(专利权)人: | 东芝三菱电机产业系统株式会社 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 戚宏梅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的目的在于提供一种能够防止产生堵塞的、具有喷雾头部的构造的成膜装置。而且,本发明的成膜装置中的喷雾头部(100)在原料溶液喷射用喷嘴部(N1)、反应材料喷射用喷嘴部(N3)之间设有非活性气体喷射部(82),在原料溶液喷射用喷嘴部(N1)、反应材料喷射用喷嘴部(N2)之间设有非活性气体喷射部(83)。因此,非活性气体喷出口(192)设于原料溶液喷出口(15)与反应材料喷出口(17)之间,非活性气体喷出口(193)设于原料溶液喷出口(15)与反应材料喷出口(16)之间。 | ||
搜索关键词: | 装置 | ||
【主权项】:
一种成膜装置,通过在大气中喷射雾化后的原料溶液,从而对基板(23)成膜出膜,其特征在于,该成膜装置具备:载置部(24),供上述基板载置;以及喷雾头部(100,100B),在底面具有原料溶液喷出口(15,15B)、反应材料喷出口(16,17,16B,17B)及非活性气体喷出口(192,193,192B,193B),对载置于上述载置部的上述基板,从上述原料溶液喷出口喷射上述原料溶液,从上述反应材料喷出口喷射有助于与上述原料溶液进行反应的反应材料,从上述非活性气体喷出口喷射非活性气体,上述非活性气体喷出口设于上述原料溶液喷出口与上述反应材料喷出口之间。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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