[发明专利]成膜装置

摘要

本发明的目的在于提供具有简单地去除附着的反应生成物的构造的成膜装置。并且，本发明的成膜装置具备能够相对于喷雾头部(100)的底面拆除地设置的底板(21)。底板(21)在向喷雾头部(100)的底面安装时与原料溶液喷出口(15)、反应材料喷出口(16、17)以及惰性气体喷出口(192～194)对应的区域具有原料溶液用开口部(35)、反应材料用开口部(36、37)以及惰性气体用开口部(392～394)。

主权项

一种成膜装置，执行通过向大气中喷射雾化后的原料溶液来针对衬底(23)成膜的成膜处理，所述成膜装置的特征在于，具备：载置部(24)，载置所述衬底；喷雾头部(100、100B)，与载置在所述载置部的所述衬底的上表面对置地设置，在底面具有原料溶液喷出口(15、15B)以及排气口(18)，由所述原料溶液喷出口喷射所述原料溶液，从所述排气口进行排气处理；以及底板(21、21B)，能够拆除地设置在所述喷雾头部的底面，所述底板以不妨碍执行所述成膜处理的形态安装于所述喷雾头部的底面。