[其他]LED制造用光罩板有效
| 申请号： | 201590000167.6 | 申请日： | 2015-10-02 |
| 公开（公告）号： | CN205539916U | 公开（公告）日： | 2016-08-31 |
| 发明（设计）人： | 魏晓敏 | 申请（专利权）人： | 魏晓敏 |
| 主分类号： | G03F1/38 | 分类号： | G03F1/38 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开了一种LED制造用光罩板，包括：晶圆曝光部及非晶圆曝光部，于所述非晶圆曝光部上设置有用于在不同光罩板之间进行区分的荧光标记。这样，在黄光制程中，荧光标记由于其独特的光显特性，可清楚明确地提醒操作人员其所拿取的光罩板正确与否，从而大大降低错版情况发生的几率。 | ||
| 搜索关键词： | led 制造 用光 | ||
【主权项】：
一种LED制造用光罩板，包括：晶圆曝光部及非晶圆曝光部，其特征在于，于所述非晶圆曝光部上设置有用于在不同光罩板之间进行区分的荧光标记。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
