[其他]用于溅射沉积的沉积源和溅射装置有效
申请号: | 201590001451.5 | 申请日: | 2015-05-08 |
公开(公告)号: | CN208741937U | 公开(公告)日: | 2019-04-16 |
发明(设计)人: | 弗兰克·施纳朋伯杰 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | A99Z99/00 | 分类号: | A99Z99/00 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 提供了一种用于溅射沉积的沉积源和溅射装置,其中沉积源包括:至少一个可旋转阴极(30);RF功率布置(20);以及功率输送组件(40、140),将所述RF功率布置与所述可旋转阴极连接,其中所述功率输送组件包括第一电源连接器(42、142、342、442)和第二电源连接器(44、144、344、444),以用于在两个间隔开的位置(32、34)处同时向所述可旋转阴极提供来自所述RF功率布置的RF能量,其中所述RF功率布置包括匹配盒(21),其中所述功率输送组件包括:第一电连接件(146、246),连接所述匹配盒与所述第一电源连接器;以及第二电连接件(148、248),连接所述匹配盒与所述第二电源连接器,其中所述匹配盒(21)包括输出端子(25),所述输出端子沿着所述第一电连接件(246)和所述第二电连接件(248)中的至少一个可移动地安装。 | ||
搜索关键词: | 电源连接器 电连接件 匹配盒 阴极 功率输送组件 沉积源 可旋转 溅射沉积 溅射装置 输出端子 可移动地安装 | ||
【主权项】:
1.一种用于溅射沉积的沉积源(10、100、200、300、420),其特征在于,所述沉积源包括:至少一个可旋转阴极(30);RF功率布置(20);以及功率输送组件(40、140),将所述RF功率布置与所述可旋转阴极连接,其中所述功率输送组件包括第一电源连接器(42、142、342、442)和第二电源连接器(44、144、344、444),以用于在两个间隔开的位置(32、34)处同时向所述可旋转阴极提供来自所述RF功率布置的RF能量,其中所述RF功率布置包括匹配盒(21),其中所述功率输送组件包括:第一电连接件(146、246),连接所述匹配盒与所述第一电源连接器;以及第二电连接件(148、248),连接所述匹配盒与所述第二电源连接器,其中所述匹配盒(21)包括输出端子(25),所述输出端子沿着所述第一电连接件(246)和所述第二电连接件(248)中的至少一个可移动地安装。
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