[发明专利]一种用于金属精细研磨的研磨石在审
申请号: | 201610000289.6 | 申请日: | 2016-01-03 |
公开(公告)号: | CN105622074A | 公开(公告)日: | 2016-06-01 |
发明(设计)人: | 吴兴伟 | 申请(专利权)人: | 安徽律正科技信息服务有限公司 |
主分类号: | C04B35/10 | 分类号: | C04B35/10 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 230088 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于金属精细研磨的研磨石,所述研磨石包括以下重量百分比的原料:三氧化二铝98-99%、三氧化二铁0.1-0.2%、氧化铁0.05-0.1%、氧化硅0.05-0.1%、二氧化硅0.01-0.04%、氧化钠0.01-0.04%、氧化锆0.01-0.02%,余量为氧化钙。本发明中的三氧化二铝作为常见的原料,使用时可以有效降低生产成本,通过将三氧化二铝、三氧化二铁、氧化铁、氧化硅、二氧化硅、氧化钠、氧化锆和氧化钙等原料进行混合,上述原料经过高温煅烧后得到的研磨石在进行金属表面研磨抛光时具有精度高的优点,使用过程中可以和震动抛光机、滚动抛光机配合使用,本发明有效使得金属表面具有一定的光整度,光洁度和光亮度,可以广泛应用于各种金属零件的加工。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 金属 精细 研磨 | ||
【主权项】:
一种用于金属精细研磨的研磨石,其特征在于,所述研磨石包括以下重量百分比的原料:三氧化二铝98‑99%、三氧化二铁0.1‑0.2%、氧化铁0.05‑0.1%、氧化硅0.05‑0.1%、二氧化硅0.01‑0.04%、氧化钠0.01‑0.04%、氧化锆0.01‑0.02%,余量为氧化钙。
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