[发明专利]具有潜在荧光材料的四苯乙烯四三唑高氯酸铜配合物及其制备方法在审
申请号: | 201610001118.5 | 申请日: | 2016-01-05 |
公开(公告)号: | CN105669705A | 公开(公告)日: | 2016-06-15 |
发明(设计)人: | 王英 | 申请(专利权)人: | 天津师范大学 |
主分类号: | C07F1/08 | 分类号: | C07F1/08;C09K11/06;G01N21/64 |
代理公司: | 天津市杰盈专利代理有限公司 12207 | 代理人: | 朱红星 |
地址: | 300387 *** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了四苯乙烯四三唑高氯酸铜配合物单晶及其制备方法与应用,其结构[Cu4(L)3(O)2]·5H2O,其中,L=1,1,2,2-四[4-(1H-1,2,4-三氮唑-1-基)苯基]乙烯。同时还公开了单晶的制备方法。它是采用常温挥发法,即L和Cu(ClO4)2·6H2O在CHCl3、CH3OH、水和乙腈的混合溶剂中搅拌半小时后过滤,滤液常温挥发两周后得到适合X-射线单晶衍射的蓝色块状晶体。其中,L:Cu(ClO4)2·6H2O的摩尔比为1:1。本发明进一步公开了四苯乙烯四三唑高氯酸铜配合物单晶作为潜在荧光材料在检测染料或发光剂的吸附量方面的应用。 | ||
搜索关键词: | 具有 潜在 荧光 材料 苯乙烯 四三唑高 氯酸 配合 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种四苯乙烯四三唑高氯酸铜配合物的单晶,其特征在于该单晶结构采用APEX II CCD单晶衍射仪,使用经过石墨单色化的Mokα射线,λ = 0.71073 Å为入射辐射,以ω‑2θ扫描方式收集衍射点,经过最小二乘法修正得到晶胞参数,从差值傅立叶电子密度图利用软件解出单晶数据:其结构如下:[Cu4(L)3(O)2]·5H2O,其中,L = 1,1,2,2‑四[4‑(1H‑1,2,4‑三氮唑‑1‑基)苯基]乙烯。
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