[发明专利]一种阵列基板及制作方法有效
申请号: | 201610003750.3 | 申请日: | 2016-01-04 |
公开(公告)号: | CN105489596B | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | 杨小飞;莫再隆;辛燕霞;代科;朱亚文;苏磊 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L23/60 | 分类号: | H01L23/60;H01L27/12 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;黄灿 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种阵列基板及制作方法,涉及显示领域。其中,阵列基板包括依次形成在衬底基板上的金属图形以及导电图形,所述导电图形与所述金属图形绝缘,与所述导电图形同层同材料形成的静电释放图形,所述静电释放图形与所述导电图形绝缘,并连接所述金属图形。本发明的方案在形成导电图形的制作工艺中还额外形成一个用于与金属图形连接的静电释放图形,该静电释放图形用于释放金属图形上一部分静电,防止金属图形的静电击穿到导电图形上,从而与导电图形短接。由于该静电释放图形可以采用导电图形的构图工艺形成,因此本实施例的阵列基板并不会额外增加制作成本,具有很高应用价值。 | ||
搜索关键词: | 导电图形 金属图形 静电释放 阵列基板 绝缘 制作 衬底基板 构图工艺 静电击穿 制作工艺 静电 同材料 短接 同层 释放 应用 | ||
【主权项】:
1.一种阵列基板,包括依次形成在衬底基板上的金属图形以及导电图形,所述导电图形与所述金属图形绝缘,其特征 在于,所述阵列基板还包括:与所述导电图形同层同材料形成的静电释放图形,所述静电释放图形与所述导电图形绝缘,并连接所述金属图形;所述金属图形为信号线,所述信号线包括栅线或数据线;所述静电释放图形包括:第一静电释放图形,设置在阵列基板的压接区域内,与所述信号线的输入端连接;和/或第二静电释放图形,设置在阵列基板的显示区域内,与所述信号线的输出端连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610003750.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。