[发明专利]用于气溶胶喷射打印的焊接掩模组合物有效
| 申请号： | 201610003930.1 | 申请日： | 2016-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN105785708B | 公开（公告）日： | 2019-07-26 |
| 发明（设计）人： | Y·吴;K·哈弗雅德 | 申请（专利权）人： | 施乐公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人： | 杨月;钟守期 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于气溶胶喷射打印的焊接掩模油墨，其包含金属氧化物和基于丙二醇的溶剂；所述焊接掩模油墨在25℃下于101/s的剪切速率下具有约50cps至约1,000cps的粘度，并且剪切稀化指数为约1.0至约2.0。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 气溶胶 喷射 打印 焊接 模组 | ||
【主权项】：
1.一种焊接掩模油墨，所述焊接掩模油墨包含：i)树脂或UV可固化单体；ii)无机颜料；和iii)所述油墨的总重量的20至50％的溶剂；其中所述溶剂为丙二醇单甲醚乙酸酯和二丙二醇单甲醚乙酸酯的以重量计1:1组合溶剂；其中所述焊接掩模油墨制剂在25℃下于10l/s的剪切速率下具有50cps至800cps的粘度，并且剪切稀化指数为1.0至1.5。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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