[发明专利]一种背光模组及其制作方法、显示装置有效
| 申请号： | 201610004821.1 | 申请日： | 2016-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN105425469B | 公开（公告）日： | 2018-09-11 |
| 发明（设计）人： | 董瑞君;陈东;王光泉;孙海威;陈丽莉;曾智辉;禹璐;吴建杰;王倩;孙伟;陈会娟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13357 | 分类号： | G02F1/13357;G02F1/1335;H01L33/00;H01L33/06 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种背光模组及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，能够解决现有技术中背光模组厚度较大的问题。背光模组包括第一电极、位于第一电极表面的衬底层，衬底层的表面排布有量子线阵列，量子线阵列包括多个量子线阵列单元；量子线阵列单元包括依次位于衬底层表面的第一缓冲层、有源层、第二缓冲层以及第二电极；其中，第二缓冲层完全覆盖第一缓冲层和有源层，第二缓冲层包括与第一缓冲层重叠的重叠区以及除重叠区以外的非重叠区；第二电极至少与部分重叠区重叠。用于提供背光源。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 背光 模组 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种背光模组，其特征在于，包括第一电极、位于所述第一电极表面的衬底层，所述衬底层的表面排布有量子线阵列，所述量子线阵列包括多个量子线阵列单元；所述量子线阵列单元包括依次位于所述衬底层表面的第一缓冲层、有源层、第二缓冲层以及第二电极；所述第二缓冲层完全覆盖所述第一缓冲层和所述有源层；其中，所述第二缓冲层包括与所述第一缓冲层重叠的重叠区以及除所述重叠区以外的非重叠区；所述第二电极至少与部分所述重叠区重叠。
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