[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示装置有效
| 申请号： | 201610006495.8 | 申请日： | 2016-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN105607368B | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 余道平;金熙哲 | 申请（专利权）人： | 重庆京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 11274 北京中博世达专利商标代理有限公司 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 400714 重庆市北碚区*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置，涉及显示领域，能够将彩膜制作于阵列基板上，且减少构图次数，降低成本。本发明的阵列基板制备方法，包括：薄膜晶体管和设置于所述薄膜晶体管之上的彩膜层，所述彩膜层包括：设置于像素区域的单基色色阻块和设置于遮光区域的多基色色阻块，所述单基色色阻块包括一种基色的色阻层，所述多基色色阻块包括多个层叠设置的色阻层，且每一色阻层对应一种基色。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种阵列基板，包括：薄膜晶体管和设置于所述薄膜晶体管之上的彩膜层，其特征在于，/n所述彩膜层包括：设置于像素区域的单基色色阻块和设置于遮光区域的多基色色阻块，所述单基色色阻块包括一种基色的色阻层，所述多基色色阻块包括多个层叠设置的色阻层，且每一色阻层对应一种基色；/n所述阵列基板还包括：第二透明电极，设置于所述彩膜层上；金属层，设置于所述第二透明电极所在层之上；/n所述金属层包括：位于公共电极线上方非透光区域对应位置，并与所述公共电极线并联的第二公共电极线；位于数据线上方的第一遮蔽部；以及位于栅线上方的第二遮蔽部；/n所述金属层还包括：与隔垫物对应的隔垫物枕。/n
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