[发明专利]圆形径向渐变中性密度滤光片及其制备方法和装置

摘要

本发明涉及光能量衰减光学元件制造领域，具体涉及一种圆形径向渐变中性密度滤光片及其制备方法和装置。解决了目前圆形渐变密度滤光片透射率只能在0‑270°扇形区域内沿极坐标角度方向线性变化，而不能在径向渐变的问题，实现了光通量在圆形滤光片径向上的线性递增和线性递减变化，基片上透射率沿半径方向线性渐变的功能。本发明滤光片依次包括基片和镀制在其上的膜层，膜层为金属铬(Cr)或Ni‑Cr，制备方法采用电子束热蒸发技术或磁控溅射技术制备金属Cr或Ni‑Cr薄膜，其中的关键是实现圆形基片上透射率在径向上的线性渐变需要一种专用的装置，所述装置包括，真空室，可旋转的基片架，与基片旋转轴同轴且固定不动的圆形遮挡板，以及蒸发源。

主权项

1.一种圆形径向渐变中性密度滤光片的制备方法，其特征在于：所述的制备方法的步骤为：(1)根据圆形径向渐变中性密度滤光片圆心处的透射率和边缘呈处的透射率，计算出透射率变化量ΔT；(2)根据圆形径向渐变中性密度滤光片从圆心到边缘透射率线性增加或线性减小的要求，以及圆形径向渐变中性密度滤光片的半径R要求，制作遮挡板；(3)当透射率从圆心处的某一个值α向边缘线性递增时，遮挡板在不同径向上的开孔角为当透射率从圆心处的某一个值α向边缘线性递减时，遮挡板在不同径向上的开孔角为(4)依据真空室的高度安装遮挡板，安装时遮挡板与圆形基片之间的距离为2～4mm，遮挡板与旋转基片为同轴；(5)当基片和遮挡板安装好后，采用电子束热蒸发或磁控溅射技术制备Cr或Ni‑Cr衰减膜层，从而完成圆形径向透射率线性渐变中性密度滤光片的制备；所述的滤光片依次包括基片G和镀制在基片上的膜层M，所述的膜层M为金属Cr或Ni‑Cr，膜层M透射率在径向方向上不同线性度变化。