[发明专利]一种阵列基板、其制作方法及显示装置有效
| 申请号： | 201610008966.9 | 申请日： | 2016-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN105607357B | 公开（公告）日： | 2018-12-18 |
| 发明（设计）人： | 张斌;刘震;曹占锋;周婷婷;何晓龙;李正亮;张伟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1343 | 分类号： | G02F1/1343;G02F1/1333;H01L21/77;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种阵列基板、其制作方法及显示装置，以解决现有技术中阵列基板的制造方法中，采用ITO作电极层时，电极层和平坦层的图形需要两次构图工艺才能完成的问题。本发明的阵列基板包括：衬底基板，第一电极层，平坦层；其中第一电极层为由多条导电纳米线搭接成的薄膜；第一电极层和平坦层的图案相同。由于第一电极层是导电纳米线搭接成的薄膜，且平坦层和第一电极层有相同图案，因而可以采用曝光显影的方式对平坦层进行刻蚀，显影液可以通过导电纳米线间的缝隙渗透到平坦层，在清洗平坦层的同时，一起洗掉位于已经刻蚀掉的平坦层上方的导电纳米线，进而通过一次构图工艺同时形成平坦层和电极层的图形，减少了一次构图工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板，设置在衬底基板上的各像素单元所在区域内的第一电极层，设置在所述第一电极层下方且与所述第一电极层直接接触的平坦层；其中，所述第一电极层为由多条导电纳米线搭接成的薄膜；所述第一电极层和所述平坦层的图案相同。
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