[发明专利]在液晶面板的绝缘层上形成图案的方法及膜处理方法在审

专利信息
申请号: 201610011903.9 申请日: 2016-01-07
公开(公告)号: CN105676505A 公开(公告)日: 2016-06-15
发明(设计)人: 刘思洋 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 何青瓦
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种在液晶面板的绝缘层上形成图案的方法,该方法包括在玻璃基板表面上形成亲水性薄膜;对玻璃基板表面已形成的亲水性薄膜进行化学反应处理,以将亲水性薄膜变为疏水性薄膜;在玻璃基板表面上已形成疏水性薄膜的一侧涂布光刻胶,并进行显影和光刻胶剥离处理,以在玻璃基板上形成图案。通过上述方式,本发明能够增强薄膜与光刻胶的粘附性,取代现有涂布HMDS的方法,从而减少对人员的伤害,且安全有效。
搜索关键词: 液晶面板 绝缘 形成 图案 方法 处理
【主权项】:
一种在液晶面板的绝缘层上形成图案的方法,其特征在于,包括:在玻璃基板表面上形成亲水性薄膜;对所述玻璃基板表面已形成的亲水性薄膜进行化学反应处理,以将所述亲水性薄膜变为疏水性薄膜;在所述玻璃基板表面上已形成疏水性薄膜的一侧涂布光刻胶,并进行显影和光刻胶剥离处理,以在所述玻璃基板上形成图案。
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