[发明专利]一种碳纳米管薄膜晶体管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610011912.8 申请日: 2016-01-08
公开(公告)号: CN105428401B 公开(公告)日: 2017-02-15
发明(设计)人: 田雪雁 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L29/66 分类号: H01L29/66;H01L29/786;H01L21/336;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司11243 代理人: 许静,黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种碳纳米管薄膜晶体管,包括衬底,设置于衬底上的栅极,设置于栅极表面的有机绝缘层,设置于所述有机绝缘层上的半导体层,设置于所述半导体层上的源极和漏极,所述半导体层为依次设置的聚3‑己基噻吩层和碳纳米管聚3‑己基噻吩混合层,所述聚3‑己基噻吩层设置于绝缘层与碳纳米管聚3‑己基噻吩混合层之间。本发明的碳纳米管聚3‑己基噻吩混合层中的半导体性碳纳米管的含量较高,基本避免了含有金属性碳纳米管,保证了薄膜晶体管的电学性能。而且,所述碳纳米管聚3‑己基噻吩混合层与所述聚3‑己基噻吩层通过π‑π键连接,形成碳纳米管薄膜晶体管的半导体层立体通道,从而使制得的碳纳米管薄膜晶体管具有了较高的电学性能。
搜索关键词: 一种 纳米 薄膜晶体管 及其 制备 方法
【主权项】:
一种碳纳米管薄膜晶体管,包括衬底,设置于衬底上的栅极,设置于所述栅极表面的有机绝缘层,设置于所述有机绝缘层上的半导体层,设置于所述半导体层上的源极和漏极,其特征在于,所述半导体层为依次设置的聚3‑己基噻吩层和碳纳米管聚3‑己基噻吩混合层,所述聚3‑己基噻吩层设置于有机绝缘层与碳纳米管聚3‑己基噻吩混合层之间。
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