[发明专利]一种半导体器件及其制造方法、电子装置在审
| 申请号： | 201610015203.7 | 申请日： | 2016-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN106960790A | 公开（公告）日： | 2017-07-18 |
| 发明（设计）人： | 谢欣云;徐建华 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/336 | 分类号： | H01L21/336;H01L21/28;H01L21/324 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所11336 | 代理人： | 董巍,高伟 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种半导体器件及其制造方法、电子装置，所述方法包括提供半导体衬底，在半导体衬底上形成有伪栅极结构，所述伪栅极结构包括自下而上层叠的牺牲栅介电层和牺牲栅电极层；在半导体衬底上形成层间介电层，以填充伪栅极结构之间的间隙；去除伪栅极结构，形成沟槽；在沟槽的底部形成界面层；在沟槽的侧壁和界面层的顶部形成掺杂杂质的高k介电层；在高k介电层上形成覆盖层，并实施退火处理，使高k介电层中的掺杂杂质扩散到高k介电层与界面层的界面；形成金属栅极结构，以完全填充沟槽。根据本发明，可以提升界面层的质量，增强器件的可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体器件 及其 制造 方法 电子 装置 | ||
【主权项】：
一种半导体器件的制造方法，其特征在于，包括：提供半导体衬底，在所述半导体衬底上形成有伪栅极结构，所述伪栅极结构包括自下而上层叠的牺牲栅介电层和牺牲栅电极层；在所述半导体衬底上形成层间介电层，以填充所述伪栅极结构之间的间隙；去除所述伪栅极结构，形成沟槽；在所述沟槽的底部形成界面层；在所述沟槽的侧壁和所述界面层的顶部形成掺杂杂质的高k介电层；在所述高k介电层上形成覆盖层，并实施退火处理，使所述高k介电层中的掺杂杂质扩散到所述高k介电层与所述界面层的界面；形成金属栅极结构，以完全填充所述沟槽。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
