[发明专利]同位素靶件切割装置在审
申请号: | 201610017706.8 | 申请日: | 2016-01-13 |
公开(公告)号: | CN105414670A | 公开(公告)日: | 2016-03-23 |
发明(设计)人: | 刘国平;钟文彬;陈静;王关全;牟婉君;李兴亮;胡睿;何佳恒;魏洪源;蹇源;陈琪萍;李梅;谢翔;党宇峰;刘飞 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院核物理与化学研究所 |
主分类号: | B23D79/00 | 分类号: | B23D79/00;B23Q5/10;B23Q5/40 |
代理公司: | 中国工程物理研究院专利中心 51210 | 代理人: | 翟长明;韩志英 |
地址: | 621999 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种同位素靶件切割装置,包括屏蔽箱、切割机、控制器、手动机构;其中,所述的手动机构包含平台、锥齿轮副Ⅰ、固定器、摇柄,所述的屏蔽箱设置有进料孔、机械手、窥视窗、出料口。所述的切割机固定设置在屏蔽箱内底板上,控制器设置在屏蔽箱外,手动机构固定设置在屏蔽箱的一侧。所述的手动机构中的平台与屏蔽箱固定连接,固定器固定设置在平台上,锥齿轮副Ⅰ与切割机、摇柄分别固定连接,摇柄与固定器滑动连接,切割机与控制器电连接。本发明能将辐照的TeO2等靶件切开,无切削产生,兼具手动和电动切割功能及手动退刀功能,能对一定长度范围内的多种规格的靶件实施安全切割,操作的稳定性和安全性好。 | ||
搜索关键词: | 同位素 切割 装置 | ||
【主权项】:
一种同位素靶件切割装置,其特征是:所述的同位素靶件切割装置包括屏蔽箱(1)、切割机(2)、控制器(3)、手动机构;其中,所述的手动机构包含平台(4)、锥齿轮副Ⅰ(5)、固定器(6)、摇柄(7),所述的屏蔽箱(1)设置有进料孔(8)、机械手(9)、窥视窗(10)、出料口(11),其连接关系是,所述的切割机(2)固定设置在屏蔽箱(1)内底板上,控制器(3)设置在屏蔽箱(1)外,手动机构固定设置在屏蔽箱(1)的一侧;所述的手动机构中的平台(4)与屏蔽箱(1)固定连接,固定器(6)固定设置在平台(4)上,锥齿轮副Ⅰ(5)与切割机(2)、摇柄(7)分别固定连接,摇柄(7)与固定器(6)滑动连接;所述的切割机(2)与控制器(3)电连接;所述的切割机(2)包含机箱(12)、电机Ⅰ(13)、主轴(14)、齿轮副Ⅰ(15)、副轴(16)、齿轮副Ⅱ(17)、丝杠(18)、载靶台(19)、辊轴(20)、压片(21)、锥齿轮副Ⅱ(23)、立轴(24)、圆片形的切刀(25)、限位开关(26)、升降坪(27)、电机Ⅱ(28)、滑轨(29),所述的电机Ⅰ(13)与机箱(12)的一侧固定连接,主轴(14)水平设置于机箱(12)内并通过轴承与机箱(12)滚动连接,主轴(14)与电机Ⅰ(13)的轴同轴心固定连接;在主轴(14)的上方、下方分别水平设置有丝杠(18)、副轴(16),在机箱(12)另一侧垂直设置有立轴(24),丝杠(18)、副轴(16)、立轴(24)均通过轴承与机箱(12)滚动连接;所述的副轴(16)、丝杠(18)、立轴(24)的一端置于机箱(12)内,另一端置于机箱(12)外;在机箱(12)内设置有齿轮副Ⅰ(15)、齿轮副Ⅱ(17)、锥齿轮副Ⅱ(23),齿轮副Ⅰ(15)与主轴(14)、副轴(16)分别固定连接,齿轮副Ⅱ(17)与副轴(16)、丝杠(18)分别固定连接,锥齿轮副Ⅱ(23)与副轴(16)、立轴(24)分别固定连接;所述的机箱(12)的顶面上沿丝杠(18)的轴向设置有载靶台(19)、两个限位开关(26)、两条平行的滑轨(29),载靶台(19)的中部与伸出机箱(12)的丝杠(18)滑动连接,载靶台(19)的下端与机箱(12)、滑轨(29)分别滑动连接,载靶台(19)用于沿丝杠(18)轴线水平移动,限位开关(26)、滑轨(29)与机箱(12)固定连接;在载靶台(19)的平台上固定设置有升降坪(27)、电机Ⅱ(28),电机Ⅱ(28)通过螺杆与升降坪(27)连接,靶件(22)放置在升降坪(27)上;在载靶台(19)的顶端固定连接有压片(21),在压片(21)与载靶台(19)的台面之间固定设置有两条辊轴(20);所述的切刀(25)水平固定在机箱(12)外的立轴(24)顶端,立轴(24)与切刀(25)同轴心设置;所述的副轴(16)置于机箱(12)外的一端与锥齿轮副Ⅰ(5)固定连接;所述的电机Ⅰ(13)、电机Ⅱ(28)、限位开关(26)分别与控制器(3)电连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院核物理与化学研究所,未经中国工程物理研究院核物理与化学研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610017706.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:图像处理装置和图像处理方法
- 下一篇:电磁致动装置和方法