[发明专利]一种在曝光光刻中使用的立体模板及其制备方法有效
| 申请号： | 201610018030.4 | 申请日： | 2016-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN105425547B | 公开（公告）日： | 2018-07-10 |
| 发明（设计）人： | 刘前 | 申请（专利权）人： | 苏州华维纳纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 苏州慧通知识产权代理事务所(普通合伙) 32239 | 代理人： | 丁秀华 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市工*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种在曝光光刻中使用的立体模板及其制备方法，其中所述立体模板从下到上依次包括基片、在基片上设置的第一层膜和第二层膜，所述第二层膜表面上设置有由一种诱导图案加热获得的浮雕型立体图案。其中所述立体图案能在不同的曝光距离上形成3个或以上数量的不同像模式。 | ||
| 搜索关键词： | 立体模板 立体图案 曝光光 制备 曝光距离 第一层 浮雕型 膜表面 加热 诱导 图案 | ||
【主权项】：
1.一种在曝光光刻中使用的立体模板；其特征在于，其包括基片，其中所述基片上从下到上依次设置有第一层膜和第二层膜，所述第二层膜表面上设置有由一种诱导图案加热获得的浮雕型立体图案，其中所述立体图案能在不同的曝光距离上形成3个以上数量不同的像模式。
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