[发明专利]彩膜基板的制作方法在审
| 申请号： | 201610019265.5 | 申请日： | 2016-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN105629559A | 公开（公告）日： | 2016-06-01 |
| 发明（设计）人： | 赵国涛 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种彩膜基板的制作方法，首先在来料基板的一表面上沉积金属材料的保护膜，然后在后续制程中使该基板上形成有保护膜的表面与承载台相接触，在基板的另一表面上形成黑色矩阵、色阻层、及外敷层等，之后在薄化之前用盐酸等酸性溶液清除基板表面上的保护膜，最后对基板进行薄化，完成彩膜基板的制作，从而得到彩膜基板，该保护膜可有效保护基板的表面，防止制程中各设备对基板表面造成损伤而导致表面凹凸点的产生，从而避免在对基板进行薄化时造成凹凸点不良进一步加重，提升显示面板的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 制作方法 | ||
【主权项】：
一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供基板(10)，设定所述基板(10)上相对两侧的两表面分别为第一表面(11)和第二表面(12)，在所述基板(10)的第一表面(11)上形成金属材料的保护膜(20)；步骤2、将基板(10)放置于承载台(100)上，此时，第一表面(11)面向承载台(100)，第一表面(11)上的保护膜(20)与承载台(100)相接触，在基板(10)的第二表面(12)上形成黑色矩阵(30)、色阻层(40)、及外敷层(50)；步骤3、提供酸性溶液，将第一表面(11)上的保护膜(20)清除掉；步骤4、提供薄化液，利用薄化液从基板(10)的第一表面(11)对基板(10)进行薄化，得到彩膜基板。
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