[发明专利]具有异质结结构的GaN基p型场效应管及制备方法在审

专利信息
申请号: 201610019752.1 申请日: 2016-01-13
公开(公告)号: CN105514156A 公开(公告)日: 2016-04-20
发明(设计)人: 薛世伟;王玲;李晓娟;王继强;谢晶;张燕;刘诗嘉;李向阳 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: H01L29/778 分类号: H01L29/778;H01L29/205;H01L29/423;H01L21/335;H01L21/28
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 郭英
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种具有异质结结构的GaN基p型场效应管及制备方法,以具有p型AlGaN材料以及p型GaN材料的多层材料为基体材料。利用电子束蒸发依次生长Ni、Au、Ni和Au形成多层金属,作为器件的源端电极和漏端电极。为了精确控制栅长为2μm的区域,利用ICP刻蚀钝化层,然后用电子束蒸发生长的单层金属Au作为器件的栅电极。本发明的优点在于:利用p型GaN与p型AlGaN形成异质结处高浓度的二维空穴气,提高p型器件的电学性能;所用的外延材料以及工艺与制备日盲紫外器件兼容,为制备有源紫外器件打下了技术基础。
搜索关键词: 具有 异质结 结构 gan 场效应 制备 方法
【主权项】:
一种具有异质结结构的GaN基p型场效应管,其特征在于:所述场效应管的结构为:在具有异质结结构的多层外延材料上通过电子束蒸发制备源端电极(1)、漏端电极(4)和栅电极(3),从而得到利用空穴导电的场效应管器件;场效应管衬底为Al2O3衬底(8),多层外延材料为在AlGaN材料(7)上依次外延生长的p型AlGaN(6)和p型GaN(5),其中:p型GaN层的厚度为10nm~30nm,载流子浓度为1017~1018/cm3;p型AlGaN层的厚度为0.1um~0.3μm,载流子浓度为1×1017~5×1017/cm3
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