[发明专利]蚀刻液以及硅基板的表面粗糙化的方法在审

专利信息
申请号: 201610022693.3 申请日: 2016-01-14
公开(公告)号: CN106356296A 公开(公告)日: 2017-01-25
发明(设计)人: 陈嘉明;陈鹏宇;林文信;刘俊毅;王秋迪 申请(专利权)人: 绿能科技股份有限公司
主分类号: H01L21/306 分类号: H01L21/306;H01L31/0236
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 代理人: 马雯雯,臧建明
地址: 中国台湾台北*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明提供一种蚀刻液以及硅基板的表面粗糙化的方法,所述硅基板的表面粗糙化的方法包括以下步骤提供硅基板;使用蚀刻液对硅基板进行蚀刻,其中蚀刻液包括硝酸、氢氟酸以及硫酸;以及冲洗硅基板。本发明的蚀刻液有助于使硅基板的表面粗糙化以及移除损伤层。
搜索关键词: 蚀刻 以及 硅基板 表面 粗糙 方法
【主权项】:
一种蚀刻液,其特征在于,包括硝酸、氢氟酸以及硫酸。
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