[发明专利]基于主动平衡质量动线圈磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置

摘要

基于主动平衡质量动线圈磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置属于半导体制造装备技术，该装置包括支撑框架、平衡质量块、磁浮工件台、工件台测量装置、工件台驱动装置，两个工件台工作于测量位和曝光位之间，采用平面光栅对工件台位置进行测量，采用双电机曲柄摇杆机构组成的主动补偿结构对平衡质量块进行运动补偿，工件台采用磁悬浮平面电机驱动，采用双层水冷散热降温，双工件台交换过程中，采用平面电机驱动两个工件台实现单节拍弧线快速换台；本发明解决了现有换台方案节拍多、轨迹长、起停环节多、稳定时间长等问题，减少换台环节，缩短了换台时间，提高了光刻机的产率。

主权项

一种基于主动平衡质量动线圈磁浮双工件台矢量圆弧换台方法，其特征在于该方法包括以下步骤：初始工作状态，测量位第一工件台处于预对准状态，曝光位第二工件台处于曝光状态；第一步，测量位第一工件台预对准完毕后由动线圈驱动运动到测量位换台预定位置A并充电和等待，曝光位第二工件台曝光完毕后由动线圈驱动运动到曝光位换台预定位置B；第二步，第一工件台与第二工件台通过平面电机矢量控制沿圆弧轨迹逆时针运动，在运动过程中，两个工件台的相位不发生变化，运动位置由平面光栅进行测量，与此同时，第一线缆台跟随第一工件台由测量位一侧向曝光位运动，第二线缆台跟随第二工件台由曝光位一侧向测量位运动，当第一工件台运动到曝光位预定位置C、第二工件台运动到测量位预定位置D时，换台结束，第一工件台在曝光位进行硅片光刻曝光，第二工件台在测量位进行硅片上片及硅片预对准操作；第三步，测量位第二工件台预对准完毕后由动线圈驱动运动到测量位换台预定位置A'并充电和等待，曝光位第一工件台曝光完毕后由动线圈驱动运动到曝光位换台预定位置B'；第四步，第二工件台与第一工件台通过平面电机矢量控制沿圆弧轨迹顺时针运动，与此同时，第一线缆台跟随第一工件台由曝光位一侧向测量位运动，第二线缆台跟随第二工件台由测量位一侧向曝光位运动，当第二工件台运动到曝光位预定位置C、第一工件台运动到测量位预定位置D时，换台结束，曝光位第二工件台进入曝光状态，测量位第一工件台进行上下片及预对准操作，此时系统回到初始工作状态，完成了包含两次换台操作的一个工作周期。