[发明专利]一种用于圆柱面掩膜电解加工的装置有效
| 申请号： | 201610024619.5 | 申请日： | 2016-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN105921831B | 公开（公告）日： | 2017-12-26 |
| 发明（设计）人： | 明平美;周维海;赵晨昊;周红梅;张晓东;陈竞涛;毕向阳 | 申请（专利权）人： | 河南理工大学 |
| 主分类号： | B23H3/00 | 分类号： | B23H3/00;B23H3/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 454003 河南*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明专利公开了一种用于圆柱面掩膜电解加工的装置，包括配液体、前密封端盖和后密封端盖；配液体包括外结构层、半圆弧状结构层、置于外结构层和半圆弧状结构层之间的轴向贯穿的导流槽；半圆弧状结构层的弧面设有轴向走向的交错均匀分布的出液槽和凸台，两相邻的出液槽与凸台之间的圆心角为 3°~10°；凸台沿轴向方向等间距d地设有进液孔；前密封端盖和后密封端盖分别与配液体的两个轴向端可拆式密封联接；引流槽与导流槽连通。本发明的装置利于极间多孔介质填充型掩膜电解加工方法的电解产物排出，可提高圆柱形工件阳极表面的流场分布均匀性，进而提高电解加工质量，尤其适合于圆柱曲面电解加工，且结构简单、操作方便、工艺成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 圆柱面 电解 加工 装置 | ||
【主权项】：
一种用于圆柱面掩膜电解加工的装置，包括配液体、前密封端盖和后密封端盖；所述的配液体包括外结构层、半圆弧状结构层、置于外结构层和半圆弧状结构层之间的轴向贯穿的导流槽；所述的前密封端盖和后密封端盖均设有引流槽和进液口；所述的半圆弧状结构层的弧面设有轴向走向的交错均匀分布的出液槽和凸台，两相邻的出液槽与凸台之间的圆心角为3°~10°；所述的凸台沿轴向方向等间距d地设有进液孔；所述的前密封端盖和后密封端盖分别与配液体的两个轴向端可拆式密封联接；所述的引流槽与导流槽连通。
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