[发明专利]一种获取剪切场下单个聚合物分子荧光发射光谱信息的方法有效
申请号: | 201610031002.6 | 申请日: | 2016-01-18 |
公开(公告)号: | CN105675560B | 公开(公告)日: | 2018-06-01 |
发明(设计)人: | 郑锴锴;杨京法;赵江 | 申请(专利权)人: | 中国科学院化学研究所;中国科学院大学 |
主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 关畅;王春霞 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种获取剪切场下单个聚合物分子荧光发射光谱信息的方法。该方法包括如下步骤:(1)配制浓度为10nM以下的聚合物溶液,将荧光分子探针标记在聚合物分子上;(2)在施加剪切场的同时,激光照射经标记的聚合物溶液,收集分析发射出的荧光信号,即得所述单个聚合物分子的荧光发射光谱信息;所采用的测量系统包括一激发光源单元、一剪切施加与流变测量单元、一光学显微单元和一单分子荧光发射光谱测量单元,其中,剪切施加与流变测量单元底部设置一激发光光学窗口。本发明方法将宏观的剪切施加与流变测量和单分子荧光发射光谱测量相结合,获取剪切场下被测量体系的单分子荧光发射光谱,其探测空间为10‑15L级别,具有单分子级别的灵敏度。 | ||
搜索关键词: | 剪切 单个聚合物分子 荧光发射光谱 单分子荧光 流变测量 施加 发射光谱测量 聚合物溶液 荧光分子探针 聚合物分子 测量体系 测量系统 发射光谱 激发光源 激光照射 探测空间 显微单元 荧光信号 单分子 剪切场 灵敏度 配制 发射 激发 宏观 分析 | ||
【主权项】:
1.一种获取剪切场下单个聚合物分子荧光发射光谱信息的方法,包括如下步骤:(1)配制浓度为10nM以下的聚合物溶液,将荧光分子探针标记在聚合物分子上;(2)在施加剪切场的同时,激光照射经标记的聚合物溶液,收集发射出的荧光信号,即得单个聚合物分子的荧光发射光谱信息;所采用的测量系统包括:一用于作为激发光照射待测样品的激发光源单元;一用于对待测样品施加机械剪切同时测量其宏观流变学特性的剪切施加与流变测量单元,所述剪切施加与流变测量单元底部设置一激发光光学窗口;以及一光学显微单元,所述光学显微单元用于将所述激发光源单元出射的激发光经所述激发光光学窗口引入到位于剪切场下的待测样品,使得待测样品受激发产生荧光信号,并将产生的荧光信号收集发射到一单分子荧光发射光谱测量单元;所述单分子荧光发射光谱测量单元用于获取荧光信号,得到单个聚合物分子的荧光发射光谱信息;所述测量系统中,所述光学显微单元采用倒置荧光显微镜结构,包括一显微镜物镜、一二向色镜、一反射镜、一发射光高通滤波片、一激发光带通滤波片、一狭缝和一聚焦透镜,所述激发光经所述显微镜物镜发射到位于所述剪切施加与流变测量单元内部的待测样品,经待测样品激发的荧光经所述显微镜物镜收集后发射到所述二向色镜,经所述二向色镜出射的荧光信号经所述滤波片发射到所述反射镜,经所述反射镜反射的荧光经所述聚焦透镜和狭缝发射到所述单分子荧光发射光谱测量单元;另外,所述激发光源单元的出射端设置所述激发光带通滤波片。
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