[发明专利]一种获取剪切场下单个分子光谱及成像测量系统

摘要

本发明涉及一种获取剪切场下单个分子光谱及成像测量系统，其特征在于，该测量系统包括：一用于作为激发光照射待测样品的激发光源单元；一用于对待测样品施加机械剪切同时测量其宏观流变学特性的剪切施加与流变测量单元；以及一光学显微单元，光学显微单元用于将激发光源单元出射的激发光引入到位于剪切场下的待测样品，使得待测样品的染料分子受激发产生荧光信号，并将产生的荧光信号收集分别发射到一单分子荧光成像单元、一单分子荧光发射光谱测量单元和/或一荧光关联光谱测量单元。本发明可以广泛地应用于聚电解质稀溶液、凝胶、界面扩散、薄膜成像等多电荷凝聚态体系，探索其特殊性质的基础物理根源。

主权项

一种获取剪切场下单个分子光谱及成像测量系统，其特征在于，该测量系统包括：一用于作为激发光照射待测样品的激发光源单元；一用于对待测样品施加机械剪切同时测量其宏观流变学特性的剪切施加与流变测量单元，所述剪切施加与流变测量单元底部设置一激发光光学窗口；以及一光学显微单元，所述光学显微单元用于将所述激发光源单元出射的激发光经所述激发光光学窗口引入到位于剪切场下的待测样品，使得待测样品的染料分子受激发产生荧光信号，并将产生的荧光信号收集分别发射到一单分子荧光成像单元、一单分子荧光发射光谱测量单元和/或一荧光关联光谱测量单元；所述单分子荧光成像单元用于对扩散较慢体系内的单个荧光分子进行实时荧光成像，获得在扩散较慢的体系中的单分子实空间运动信息；所述单分子荧光发射光谱测量单元用于对待测体系内单个荧光分子的发射光谱，并对其进行强度分析通过光谱的变化得到染料分子附近的抗衡离子分布的信息；所述荧光关联光谱测量单元用于获取荧光信号的关联光谱，并对其进行关联性分析得到聚合物分子的扩散以及尺寸信息。