[发明专利]一种纳米压痕测量系统在审
申请号: | 201610031925.1 | 申请日: | 2016-01-18 |
公开(公告)号: | CN105527184A | 公开(公告)日: | 2016-04-27 |
发明(设计)人: | 王曼;熊克;刘红光 | 申请(专利权)人: | 南京航空航天大学 |
主分类号: | G01N3/40 | 分类号: | G01N3/40 |
代理公司: | 江苏圣典律师事务所 32237 | 代理人: | 贺翔 |
地址: | 210016 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明实施例公开了一种纳米压痕测量系统,涉及测量技术领域,能够在对实验仪器的精准度要求不高的情况下就可以提高纳米颗粒力学参数的测量准确率。本发明包括:工作台、硅板、平压头、滑动单元、控制单元、处理单元和显示单元;硅板为平板,安装在工作台上,硅板上均匀分布凹槽;平压头安装在滑动单元上,平压头的压力承受面正对硅板并与硅板平行;控制单元与滑动单元连接,用于控制滑动单元滑动,平压头接触硅板上的纳米颗粒并压入指定深度;显示单元,用于显示压得的纳米颗粒数目和状态;处理单元,用于通过压得的纳米颗粒数目和状态,得到纳米颗粒的力学参数。本发明适用于测量纳米颗粒的力学参数。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 压痕 测量 系统 | ||
【主权项】:
一种纳米压痕测量系统,其特征在于,包括:物料承载装置和压力控制装置,所述物料承载装置包括工作台和硅板组成的,所述压力控制装置包括平压头、滑动单元、控制单元、处理单元和显示单元;所述硅板为平板,安装在所述工作台上,所述硅板上均匀分布凹槽;所述平压头安装在所述滑动单元上,所述平压头的压力承受面正对所述硅板并与所述硅板平行;所述控制单元与所述滑动单元连接,用于控制所述滑动单元滑动,所述平压头接触所述硅板上的纳米颗粒并压入指定深度;所述显示单元,用于显示压得的纳米颗粒数目和状态;所述处理单元,用于通过压得的纳米颗粒数目和状态,得到纳米颗粒的力学参数。
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