[发明专利]等离子处理装置以及等离子处理方法

摘要

一种等离子处理装置，具备：反应室；使反应室中产生等离子的等离子产生部；配置在反应室的内部，搭载输送载体的工作台；具备设置在工作台内部的电极部的静电吸附机构；在工作台上的搭载位置与从工作台向上方脱离的交接位置之间支撑输送载体的支撑部；和使支撑部相对于工作台升降的升降机构，1)在使支撑部下降，将输送载体搭载于工作台时，在进行设置在工作台内部的加热器对工作台的加热的状态下，静电吸附机构开始向电极部施加电压，在输送载体与工作台接触后，且停止加热器对工作台的加热后，等离子产生部产生等离子，或2)在使支撑部下降，将输送载体搭载于工作台时，支撑部支撑输送载体，以使框架在相对于工作台倾斜的状态下与工作台接触。

主权项

1.一种等离子处理装置，对被保持于输送载体的基板进行等离子处理，所述输送载体具备保持片和被配置在所述保持片的外周部的框架，所述基板被保持于所述保持片，所述等离子处理装置具备：反应室；等离子产生部，其使所述反应室中产生等离子；工作台，其被配置在所述反应室的内部，用于搭载所述输送载体；静电吸附机构，其具备被设置在所述工作台内部的电极部；加热器，其被设置在所述工作台内部；支撑部，其在所述工作台上的搭载位置与从所述工作台向上方脱离的交接位置之间支撑所述输送载体；和升降机构，其使所述支撑部相对于所述工作台升降，在使所述支撑部下降来将所述输送载体搭载于所述工作台的情况下，在进行由所述加热器进行的所述工作台的加热的状态下，在所述保持片的所述外周部与所述工作台接触之前，所述静电吸附机构开始向所述电极部施加电压，在所述保持片的所述外周部的至少一部分与所述工作台接触之后，并且由所述加热器进行的所述工作台的加热被停止之后，所述等离子产生部产生等离子。