[发明专利]一种Ni-Cr-SiO2 在审
申请号: | 201610034731.7 | 申请日: | 2016-01-19 |
公开(公告)号: | CN105624746A | 公开(公告)日: | 2016-06-01 |
发明(设计)人: | 杜登学;吕鸿飞;周磊;崔楠 | 申请(专利权)人: | 齐鲁工业大学 |
主分类号: | C25D3/56 | 分类号: | C25D3/56;C25D15/00;C25D5/18 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 杨磊 |
地址: | 250353 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: |
本发明涉及一种Ni‑Cr‑SiO |
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搜索关键词: | 一种 ni cr sio base sub | ||
【主权项】:
1.一种Ni-Cr-SiO2 纳米复合镀层的电镀方法,步骤如下:以石墨为阳极、铁为阴极,利用电镀液采用脉冲电沉积的方式电镀;电镀条件:脉冲频率5-15Hz,脉冲占空比40-60%,电流密度10-30 A /dm2 ,电镀温度20-35℃,电镀时间40-100min,pH=2-3;所述的电镀液包括如下成分的浓度组成:CrCl3 ∙6H2 O 70-80g/L,NiSO4 ∙6H2 O 40-60g/L,NiCl2 ∙6H2 O 40-50g/L,NH4 Cl 40-60g/L,H3 BO3 40-60g/L,十二烷基磺酸钠 0.1-0.3g/L,柠檬酸 120-140g/L,SiO2 10-20g/L;所述的纳米复合镀层包括如下成分及其质量百分含量:Ni 72.00 - 88.00%、Cr 10.00 - 20.00%、SiO2 1.00 - 5.00%,余量为不可避免的杂质;所述的Ni-Cr-SiO2 纳米复合镀层组分晶粒的平均粒径为16-19nm;所述的Ni-Cr-SiO2 纳米复合镀层的显微硬度为1000-1329Hv;所述的Ni-Cr-SiO2 纳米复合镀层在3.5 wt.% NaCl溶液中的交流阻抗为4380-6997Ω/cm2 。
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