[发明专利]等离子处理装置以及等离子处理方法

摘要

一种等离子处理装置，对保持于输送载体的基板进行等离子处理，输送载体具备保持片和配置在保持片的外周部的框架，基板保持于保持片，等离子处理装置具备：反应室；配置在反应室的内部，搭载输送载体的工作台；具备设置在工作台内部的电极部的静电吸附机构；在工作台上的搭载位置与从工作台向上方脱离的交接位置之间支撑输送载体的支撑部；和使支撑部相对于工作台升降的升降机构，1)使支撑部下降将输送载体搭载于工作台时，保持片的外周部与工作台接触前，静电吸附机构开始向电极部施加电压，或2)电极部具备配置为同心圆状的多个环形电极，在使支撑部下降将输送载体搭载于工作台时，静电吸附机构从多个环形电极的中心侧依次向外周侧施加电压。

主权项

一种等离子处理装置，对被保持于输送载体的基板进行等离子处理，所述输送载体具备保持片和被配置在所述保持片的外周部的框架，所述基板被保持于所述保持片，所述等离子处理装置具备：反应室；工作台，其被配置在所述反应室的内部，用于搭载所述输送载体；静电吸附机构，其具备被设置在所述工作台内部的电极部；支撑部，其在所述工作台上的搭载位置与从所述工作台向上方脱离的交接位置之间支撑所述输送载体；和升降机构，其使所述支撑部相对于所述工作台升降，在使所述支撑部下降来将所述输送载体搭载于所述工作台的情况下，在所述保持片的所述外周部与所述工作台接触之前，所述静电吸附机构开始向所述电极部施加电压。