[发明专利]一种同质双层氧化铪减反膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201610038773.8 | 申请日： | 2016-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN105568227A | 公开（公告）日： | 2016-05-11 |
| 发明（设计）人： | 张政军;乐雅;谢谦;马菱薇 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/08 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 邸更岩 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区1*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种同质双层氧化铪减反膜及其制备方法，属于光学薄膜技术领域。本发明在透明或半透明基底上依次沉积高折射率的致密氧化铪层和低折射率的多孔氧化铪层。两层氧化铪的折射率由电子束蒸镀的入射角度控制，厚度根据基底不同而调节。本发明采用电子束蒸镀方法，并且双层减反膜由同种材料制成，制备成本低、效率高。该双层氧化铪减反膜对于可见光范围内的多角度入射光均具有很好的减反增透能力，可用于降低窗板、触屏电极或液晶显示屏等表面的反射，具有广泛的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 同质 双层 氧化 铪减反膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种同质双层氧化铪减反膜，其特征在于，在透明或半透明的基底表面依次沉积有致密氧化铪层和多孔氧化铪层；所述的致密氧化铪层和多孔氧化铪层在550nm参考波长处的折射率分别为1.85和1.367。
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