[发明专利]一种紫外吸收薄膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种紫外吸收薄膜材料的制备方法。近紫外光吸收屏蔽薄膜常见的有氧化锌薄膜，氧化锌薄膜化学性质不够稳定比如遇到弱酸即溶解。六方氮化硼化学稳定性好，薄膜柔韧性好，光学禁带宽度6.1eV，能够吸收屏蔽202nm附近的紫外光，可以用作紫外吸收屏蔽材料。但是六方氮化硼紫外吸收范围窄，通过氧掺杂后可以调节六方氮化硼的禁带宽度，增加六方氮化硼对紫外光的吸收范围。本专利通过化学气相沉积法在生长六方氮化硼的同时进行氧掺杂，获得氧掺杂六方氮化硼薄膜，这种方法制备的六方氮化硼薄膜对紫外光吸收的波长范围扩大到190nm～380nm，适合用作近紫外光的吸收材料。

主权项

1.一种紫外吸收薄膜的制备方法，其特征在于，该方法具体步骤是：步骤(1)、将金属片用浓度为0 .5～1.5mol/L的盐酸浸洗5～10秒，去离子水清洗后用氮气吹干，放入电炉的石英管中；步骤(2)、石英管中持续通入氩气、氢气和氧气的混合气，氩气与氢气和氧气的流量比为1～3:2:0.005～0.05；将电炉温度升至900～1000℃后保温5～30分钟；步骤(3)、同时向石英管内通入硼氨烷蒸气，20～30分钟后关闭通入硼氨烷蒸气；步骤(4)、电炉停止加热，将石英管冷却到常温，冷却速率为20～30℃/min，然后关闭通入氢气、氩气和氧气，取出金属片；步骤(5).将金属片取出，在金属片上表面旋涂PMMA溶液，PMMA溶液在空气中干燥5～30分钟形成PMMA薄膜黏附在金属片表面，然后浸入氯化铁溶液中浸泡10～60分钟去除金属片，之后将漂浮在氯化铁溶液表面的PMMA薄膜转移至基底表面，接着将基底浸入丙酮中，经过30～180分钟，获得转移至基底表面的氧掺杂氮化硼薄膜。