[发明专利]一种拼接式非渗透滞留池结构在审

专利信息
申请号: 201610040156.1 申请日: 2016-01-21
公开(公告)号: CN105484352A 公开(公告)日: 2016-04-13
发明(设计)人: 李习洪;马佳;姜景升;刘肯林 申请(专利权)人: 武汉美华禹水环境有限公司
主分类号: E03F5/10 分类号: E03F5/10;E03F5/02;E03B3/02
代理公司: 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 代理人: 俞鸿
地址: 430056 湖北省武汉*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种拼接式非渗透滞留池结构,包括中部为水流通道的主构件、与主构件底部配合固定的下部构件,以及与主构件的前后两侧表面贴合固定,且底部与下部构件的前后两侧配合固定的端墙构件;主构件、下部构件和端墙构件围成一封闭的滞留池本体,主构件内固定有溢流堰,溢流堰底部开有出水孔,所述溢流堰左右两侧表面与主构件的内表面贴合固定,底面与下部构件贴合固定,滞留池本体前后两侧的端墙构件分别连接进水管和出水管;主构件的顶部设有检查井管。模块化的设计及系列化的预制构件可满足不同容积滞留池的需求;拼装灵活,可根据地下环境拼装成不同的整体形状。
搜索关键词: 一种 拼接 渗透 滞留 结构
【主权项】:
一种拼接式非渗透滞留池结构,其特征在于:它包括中部为水流通道的主构件(1)、与主构件(1)底部配合固定的下部构件(3),以及与主构件(1)的前后两侧表面贴合固定,且底部与下部构件(3)的前后两侧配合固定的端墙构件(2);所述主构件(1)、下部构件(3)和端墙构件(2)围成一封闭的滞留池本体,所述主构件(1)内固定有溢流堰(4),所述溢流堰(4)底部开有出水孔(21),所述溢流堰(4)左右两侧表面与主构件(1)的内表面贴合固定,底面与下部构件(3)贴合固定,所述滞留池本体前后两侧的端墙构件(2)分别连接进水管(5)和出水管(6);所述主构件(1)的顶部设有检查井管(7)。
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