[发明专利]一种石墨烯复合材料/氮化硅/硅芯片高效散热系统有效
申请号: | 201610043077.6 | 申请日: | 2016-01-23 |
公开(公告)号: | CN105514059B | 公开(公告)日: | 2019-11-22 |
发明(设计)人: | 白树林;方浩明;张亚飞 | 申请(专利权)人: | 北京大学;方浩明 |
主分类号: | H01L23/36 | 分类号: | H01L23/36;H01L23/373;H05K7/20 |
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地址: | 100871 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种基于石墨烯复合材料/氮化硅/硅芯片多层结构的散热系统及构建方法,属于微电子器件的散热技术。该散热架构包括硅基发热器件,Si3N4绝缘层,石墨烯复合材料热沉和基板。其中通过化学气相沉积法在硅片背面沉积一层致密的Si3N4绝缘层,通过化学键将石墨烯复合材料与Si3N4绝缘层互连,最后将上述带有散热架构的硅片与基板相连并封装成器件。本发明利用了化学键将硅基发热器件,热界面材料,热沉互连,极大减少各器件层间距,避免层间微空隙所引起的热阻,促进声子传热,进而提高了整体散热系统的散热能力,使得芯片能够在恶劣的高温环境下工作。且封装后,整体系统更轻更薄,符合当代半导体器件的发展趋势。 | ||
搜索关键词: | 一种 石墨 复合材料 氮化 芯片 高效 散热 系统 | ||
【主权项】:
1.一种石墨烯复合材料/Si3N4/Si散热装置,其特征在于,由以下步骤制成:包括硅晶圆背面沉积一层致密的Si3N4绝缘层,在Si3N4绝缘层上利用化学键修饰与石墨烯复合材料热沉相连接,形成一个整体的散热系统,再与基板相互连;所述石墨烯复合材料包括石墨烯和固化树脂。/n
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