[发明专利]一种轻质高效电磁屏蔽用石墨烯薄膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610049006.7 申请日: 2016-01-25
公开(公告)号: CN105731434B 公开(公告)日: 2018-08-31
发明(设计)人: 李友良;高超;陈国贵;孙海燕;冯金茂;彭蠡;席嘉彬 申请(专利权)人: 浙江伟星新型建材股份有限公司;浙江碳谷上希材料科技有限公司
主分类号: C01B32/184 分类号: C01B32/184
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 邱启旺
地址: 317000 *** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明通过使用超大片氧化石墨烯成膜,并让其在高温下退火的方式下,完美修复石墨烯缺陷,并使得边缘缺陷降到最低,形成完美的大共轭结构,保证了石墨烯导热通路的畅通;进一步通过三步独立的升温过程,使得石墨烯表面的官能团逐步脱离,夹杂在石墨烯片之间的制孔剂缓慢分解,两者均以气体形式逐级释放,同时,石墨化过程逐次展开,形成石墨烯微气囊;而微气囊的形成过程中,石墨烯表面最为稳定的官能团也随之脱落,加上高温下气体膨胀,由此产生了由1‐4层石墨烯片构成的石墨烯结构;石墨烯少层结构的成功引入,极大的提升了材料的导电性能。微气囊结构辅助以较好的导电性能,使得本发明的石墨烯膜具有极强的电磁屏蔽性能。
搜索关键词: 一种 高效 电磁 屏蔽 石墨 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种轻质高效电磁屏蔽用石墨烯薄膜,其特征在于:所述薄膜的密度为0.005‑0.1g/cm3,碳质量分数为95%以上;由平面取向的平均尺寸大于100μm的石墨烯片通过ππ共轭作用相互搭接而成,其中包含由1‑4层石墨烯片构成的石墨烯结构;石墨烯片与片之间具有孔,孔的平均截面大小为10nm2‑400μm2,孔隙率70%以上;且石墨烯片的缺陷极少,其ID/IG<0.01。
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