[发明专利]取代吡啶并嘧啶类化合物的合成工艺有效
申请号: | 201610050642.1 | 申请日: | 2016-01-25 |
公开(公告)号: | CN106008559B | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 沈竞康;孟韬;于霆;马兰萍;王昕;陈驎 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海药物研究所;山东罗欣药业集团股份有限公司 |
主分类号: | C07D519/00 | 分类号: | C07D519/00;C07D471/04 |
代理公司: | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人: | 崔佳佳;马莉华 |
地址: | 201203 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: |
本发明提供了一类取代吡啶并嘧啶类化合物的合成工艺,具体地,本发明提供了一种通过式II'化合物制备式III化合物的方法,其中,各基团的定义如说明书中所述。本发明的路线与其他路线相比,具有产率高、产物易分离等特点。 |
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搜索关键词: | 取代 吡啶 嘧啶 化合物 合成 工艺 | ||
【主权项】:
一种式III化合物的制备方法:
(7)用式II’化合物与甲胺或其盐反应,得到式III化合物;其中,R1、R2、R3、R4各自独立地选自下组:取代或未取代的C1‑C4的烷基、取代或未取代的C1‑C4的酯基;或R1、R2以及相邻的‑N‑共同构成取代或未取代的3‑10元杂环,且所述的杂环上可含有1‑3个选自下组的杂原子:N、O或S;所述的3‑10元杂环为单环、二环、螺环或桥环;或R3、R4以及相邻的‑N‑共同构成取代或未取代的3‑10元杂环,且所述的杂环上可含有1‑3个选自下组的杂原子:N、O或S;所述的3‑10元杂环为单环、二环、螺环或桥环;R5选自下组:C1‑C4烷氧基(优选甲氧基或乙氧基)、氯原子、溴原子、羟基、或活性酯基
所述的取代指基团上的一个或多个氢原子被选自下组的取代基取代:卤素、C1‑C4的烷基。
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