[发明专利]外延基环

摘要

本文描述的实施方式涉及用于基板处理腔室的基环组件。在一实施方式中，所述基环组件包括环形主体、上环与下环，所述环形主体的尺寸被设计以容置在所述基板处理腔室的内圆周内，所述环形主体包括装载端口以使基板通过、气体入口以及气体出口，其中所述气体入口与所述气体出口被设置在所述环形主体的相对端处，所述上环被配置以设于所述环形主体的顶表面上，所述下环被配置以设于所述环形主体的底表面上，其中所述上环、所述下环与所述环形主体一旦组装即大体呈同心或共轴的。

主权项

1.一种用于处理腔室的衬垫组件，包括：环形主体，所述环形主体设置在处理腔室的内圆周内，所述环形主体包括：气体入口端口；气体出口端口，所述气体出口端口被设置成与所述气体入口端口相对；及基板装载端口，其中所述基板装载端口相对于所述气体入口端口和所述气体出口端口呈90°的角度偏移，并且所述气体入口端口、所述气体出口端口和所述基板装载端口被设置在相同的高度处；及气体入口机构，包括：多个第一入口，所述多个第一入口沿所述环形主体的圆周的一部分设置，所述多个第一入口中的每个第一入口与第一处理气体供给源流体连通；及多个第二入口，所述多个第二入口沿所述环形主体的所述圆周的所述部分设置，所述多个第二入口中的每个第二入口与第二处理气体供给源流体连通，其中所述多个第一入口的纵向方向相对于所述多个第二入口的纵向方向以小于45°的角度设置。