[发明专利]递归泵送构件在审
| 申请号： | 201610052251.3 | 申请日： | 2015-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN105714273A | 公开（公告）日： | 2016-06-29 |
| 发明（设计）人： | 保尔·布里尔哈特;埃德里克·唐;常安忠;戴维·K·卡尔森;埃罗尔·安东尼奥·C·桑切斯;詹姆斯·弗朗西斯·麦克;劳建邦;叶祉渊 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本公开案的实施方式涉及用于处理腔室的周缘泵送构件。所述周缘泵送构件包括环形主体，所述环形主体具有：沿着所述环形主体内的弧的第一弯曲通道；第一内部通道，所述第一内部通道将所述第一弯曲通道的第一区域连接至所述环形主体的内表面的第一区域；多个第二内部通道，所述第二内部通道将所述第一弯曲通道的第二区域连接至所述内表面的第二区域；以及第一外部通道，所述第一外部通道将所述第一弯曲通道的所述第一区域连接至所述环形主体的外表面，其中所述第二内部通道各自的大小设定成使得当流体经由所述第一外部通道而泵送出所述周缘泵送构件时，所述流体以均匀流率流过所述第一内部通道和所述第二内部通道。 | ||
| 搜索关键词： | 递归 构件 | ||
【主权项】：
一种周缘泵送构件，所述周缘泵送构件包括：环形主体，所述环形主体具有：沿着所述环形主体内的弧的第一弯曲通道；第一内部通道，所述第一内部通道将所述第一弯曲通道的第一区域连接至所述环形主体的内表面的第一区域；多个第二内部通道，所述第二内部通道将所述第一弯曲通道的第二区域连接至所述内表面的第二区域；以及第一外部通道，所述第一外部通道将所述第一弯曲通道的所述第一区域连接至所述环形主体的外表面，其中所述第二内部通道各自的大小设定成使得当流体经由所述第一外部通道而泵送出所述周缘泵送构件时，所述流体以均匀流率流过所述第一内部通道和所述第二内部通道。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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