[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示装置有效
| 申请号： | 201610052350.1 | 申请日： | 2016-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN105425471B | 公开（公告）日： | 2018-10-23 |
| 发明（设计）人： | 张振宇;廖燕平;胡巍浩;夏天宇 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13357 | 分类号： | G02F1/13357 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，该显示装置可以利用射到阵列基板的不透明图案的光线，从而提高背光源的利用率，进而改善因开口率低导致背光源利用率低的问题。一种阵列基板，包括：衬底、以及设置在所述衬底出光侧的不透明图案，还包括：与所述不透明图案对应、且设置在所述衬底入光侧的透明微结构，所述透明微结构用于通过折射改变照在其背光侧表面上的光线的路径。本发明适用于阵列基板、包括该阵列基板的显示装置的制作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种阵列基板，包括：衬底、以及设置在所述衬底出光侧的不透明图案，其特征在于，还包括：与所述不透明图案对应、且设置在所述衬底入光侧的透明微结构，所述透明微结构用于通过折射改变照在其背光侧表面上的光线的路径；所述阵列基板还包括：设置在所述衬底和所述透明微结构之间的反射层。
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